±Ø¹Ì·® Ÿ±ê°¡½º ºü¸£°í Á¤È®ÇÏ°Ô °¨Áö
ÇöÀå È®Àη¿ø°ÝÁö Á¦¾î½Ç¼µµ °¨½Ã°¡´É
ºÐ·Î¸®¾×ÅÍ µî Àû¿ë´ë»ó Á¡Áø È®´ëÅ°·Î
e¼³ºñ ¾ÈÀü»ç°í ¿¹¹æ·½Å·Ú¼º È®º¸ ±â¿©
|
|
|
ÇÑÀü Á÷¿øÀÌ º¯¾Ð±â¿¡ ¼¾¼¸¦ ¿¬°áÇØ ³»ºÎ »óŸ¦ ºÐ¼®ÇÏ°í ÀÖ´Ù |
¿ø°ÝÁöÀÇ ¹ßÀü¼Ò¿¡¼ Àü±â°¡ »ý»êµÇ¸é ¼ÛÀü¼±°ú ¹èÀü¼±À» ÅëÇØ ºôµùÀ̳ª °¡Á¤À¸·Î °ø±ÞµÈ´Ù.
ÀÌ°°Àº Àå°Å¸® Àü·Â¼ö¼Û °úÁ¤¿¡¼ ¼ÛÀü¼± ÀúÇ׿¡ ÀÇÇÑ Àü·Â ¼Õ½ÇÀ» ÃÖ¼ÒÈÇϱâ À§ÇØ ¹ßÀü¼Ò¿¡¼´Â Àü¾ÐÀ» ³ô¿©¼(½Â¾Ð) ¼ÛÀüÇÏ°í µµ½ÉÁö Àαٿ¡¼´Â ´Ù½Ã Àü¾ÐÀ» ³·Ãç¼(°¨¾Ð) °¡Á¤¿¡ Àü±â¸¦ °ø±ÞÇϴµ¥, À̶§ ¹Ýµå½Ã ¿ä±¸µÇ´Â ÇÙ½É Àü·Â°èÅë ¼³ºñ°¡ ¹Ù·Î º¯¾Ð±âÀÌ´Ù.
ÇöÀç ±¹³» Àü·Â¿ë º¯¾Ð±â´Â °íµµ¼ºÀå±â(1970~2000)¿¡ ¼³Ä¡µÈ °ÍÀÌ ¸¹¾Æ ³ëÈÄ º¯¾Ð±â ºñÀ²ÀÌ ³ôÀº ½ÇÁ¤ÀÌ´Ù.
°Ô´Ù°¡ °è¼ÓÀûÀÎ Àü·Â¼ö¿ä ±ÞÁõÀ¸·Î º¯¾Ð±â °úºÎÇÏ¿¡ ÀÇÇÑ °íÀå ¹× »ç°í ºóµµ¼öµµ ÇÔ²² Áõ°¡ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
Áï, Àý¿¬À¯ ¹× Àý¿¬Áö¿Í °°Àº º¯¾Ð±â Àý¿¬Àç·áÀÇ Àå±â°£ »ç¿ë¿¡ µû¸¥ ¿È ¶Ç´Â ¾ÆÅ©, ºÎºÐ¹æÀü µî¿¡ ÀÇÇÑ ±¹ºÎÀû °¡¿Çö»óÀÌ ¹ß»ýÇϸé, º¯¾Ð±â ÈÀ糪 Á¤Àü »ç°í·Î À̾îÁú ¼ö ÀÖ´Ù.
ÀÌ¿¡ µû¶ó Çѱ¹Àü·ÂÀº °í½Å·Ú º¯Àü¼³ºñ ¿¹¹æÁø´Ü½Ã½ºÅÛÀ» ±¸Ã෿ÇÔÀ¸·Î½á ¹ß»ý °¡´ÉÇÑ »ç°í¸¦ ¹Ì¿¬¿¡ ¹æÁöÇÏ°í È¿À²ÀûÀÎ ÀÚ»ê°ü¸®¸¦ À§ÇØ ³ë·ÂÇÏ°í ÀÖ´Ù.
º¯¾Ð±â Áß¿¡¼µµ Àü±âÀý¿¬À» À§ÇØ Àý¿¬À¯¸¦ ÃæÁøÇÏ´Â À¯ÀÔ½Ä º¯¾Ð±â¿¡ ´ëÇÑ ¿¹¹æÁø´Ü ±â¹ýÀ¸·Î À¯Áß°¡½ººÐ¼®(DGA, Dissolved Gas Analysis)ÀÌ °¡Àå ³Î¸® È°¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù.
º¯¾Ð±â ³»ºÎ¿¡ ±¹ºÎ°ú¿À̳ª Àý¿¬Æı«¿Í °°Àº ÀÌ»óÇö»óÀÌ ¹ß»ýÇϸé, °í¿·Î ÀÎÇØ Àý¿¬À¯¿Í °°Àº Àý¿¬Àç·áµéÀÌ ¿Âµµ ´ë¿ªº°·Î ¿ºÐÇصŠ´Ù¾çÇÑ °¡½º¸¦ ¹ß»ý½ÃÅ°´Âµ¥, ÀÌ·¯ÇÑ ¹ß»ý°¡½ºÀÇ Á¶¼º, ºñÀ² ¹× ³óµµ¸¦ ºÐ¼®ÇÔ¿¡ ÀÇÇØ º¯¾Ð±âÀÇ °íÀå À¯Çü, ½É°¢¼º µîÀÇ ÃßÁ¤ÀÌ °¡´ÉÇÏ´Ù.
ÀÌó·³ º¯¾Ð±â ³»ºÎÀÇ ÀÌ»ó»óÅ ¶Ç´Â Àý¿¬¹°ÀÇ ¿È ¼öÁØÀ» Á¶±â¿¡ Á¤È®ÇÏ°Ô °¨ÁöÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù¸é ÇÊ¿äÇÑ Á¶Ä¡¸¦ ¼±Á¦ÀûÀ¸·Î ÃëÇÔÀ¸·Î½á ¹ß»ý °¡´ÉÇÑ °íÀå ¶Ç´Â »ç°íÀÇ ¿¹¹æ¿¡ ÀÇÇØ ¸·´ëÇÑ °æÁ¦Àû ¹× »çȸÀû ¼Õ½ÇÀ» ¾ïÁ¦ÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô µÈ´Ù.
Àü·Â¿¬±¸¿øÀº º¯¾Ð±â ÀÌ»ó»óÅ Áø´Ü¿¡ ÀÖ¾î¼ °¡Àå ÇÙ½ÉÀûÀÎ ¼ö¼Ò(H2), ¾Æ¼¼Æ¿·»(C2H2), ÀÏ»êÈź¼Ò(CO)ÀÇ 3Á¾ °¡½º¸¦ ppm ¼öÁرîÁö Á¤È®ÇÏ°Ô °ËÁö °¡´ÉÇÑ ¹ÝµµÃ¼½Ä °¡½º¼¾¼¸¦ °³¹ßÇß´Ù.
±×µ¿¾È Àý¿¬À¯¿¡ ¹Ì·® ¿ëÁ¸µÈ À¯Áß°¡½º´Â ÁÖ·Î °¡½ºÅ©·Î¸¶Åä±×·¡ÇÇ(GC, Gas Chromatography) ¶Ç´Â ±¤À½ÇâºÐ±¤±â(PAS, Photo-acoustic Spectroscopy) µî °í°¡ÀÇ Àåºñ¸¦ ÀÌ¿ëÇØ ÁÖ·Î ¿ÀÇÁ¶óÀÎ ¹æ½ÄÀ¸·Î ºÐ¼®À» ÁøÇàÇØ ¿Ô´Ù.
ÇÏÁö¸¸ ¿ÀÇÁ¶óÀÎ ¹æ½ÄÀ¸·Î À¯Áß°¡½º¸¦ ºÐ¼®ÇÒ °æ¿ì, ÀÛ¾÷ÀÚ°¡ Á÷Á¢ º¯Àü¼Ò ÇöÀå¿¡¼ Àý¿¬À¯ ½Ã·á¸¦ äÃëÇÏ°í À̸¦ ¿ø°ÝÀÇ ½ÇÇè½Ç·Î Àü´ÞÇÑ ÈÄ¿¡¾ß °¡½º³óµµ ºÐ¼®ÀÌ ÀÌ·ïÁö¹Ç·Î ½Ã·á äÃë¿Í ºÐ¼®¿¡ ÀÖ¾î¼ ½ÃÂ÷°¡ ¹ß»ýÇÑ´Ù.
¶ÇÇÑ, Àý¿¬À¯ ½Ã·áÀÇ À̼۰úÁ¤¿¡¼ ´ë±â¿ÍÀÇ Á¢ÃË ¶Ç´Â °¡½º ¼Õ½ÇÀÌ ¹ß»ýÇÒ ¼ö ÀÖ¾î ºÐ¼® °á°úÀÇ ½Å·Ú¼ºÀ» È®º¸ÇϱⰡ ¾î·Æ´Ù.
ÀÌ¿¡ µû¶ó ÃÖ±Ù¿¡´Â °¨½ÃÀÇ ÀÚµ¿È·Î º¯Àü¼³ºñ ¿î¿µ ¹× À¯Áöº¸¼ö Àη °¨ÃàÀÌ °¡´ÉÇÏ°í »ó½Ã °¨½Ã¿¡ ÀÇÇÑ º¯¾Ð±â ÀÌ»ó¡ÈÄÀÇ ½Å¼Ó °¨Áö ¹× ´ëó·Î Àü·ÂÀÇ ¾ÈÁ¤Àû °ø±ÞÀÌ °¡´ÉÇÑ ¿Â¶óÀÎ ¹æ½ÄÀÇ °¡½ººÐ¼®ÀÌ È°¹ßÈ÷ ÀÌ·ïÁö°í ÀÖ´Ù.
±×·¯³ª ¿Â¶óÀÎ °¡½ººÐ¼®¹ýµµ ºÐ¼®±â¸¦ Á÷Á¢ º¯¾Ð±â¿Í ¿¬°áÇØ ½Ç½Ã°£À¸·Î °¡½ºµ¥ÀÌÅ͸¦ ÃëµæÇϱ⠶§¹®¿¡ ¼³ºñÀÇ ³ôÀº ½Å·Ú¼ºÀº È®º¸ °¡´ÉÇÏÁö¸¸, 1¾ï¿ø ³»¿ÜÀÇ Àåºñ °¡°Ý¿¡ µû¸¥ °æÁ¦Àû ºÎ´ãÀÌ ¸Å¿ì Å©±â ¶§¹®¿¡, Àú·ÅÇϸ鼵µ Á¤È®ÇÑ Æ¯¼ºÀÇ °¡½º¼¾¼¸¦ ÀÌ¿ëÇØ À¯Áß°¡½º¸¦ ºÐ¼®ÇÏ°íÀÚ ÇÏ´Â ¿ä±¸°¡ Áõ´ëµÅ ¿Ô´Ù.
ƯÈ÷, ±Ý¼Ó»êȹ° ¹ÝµµÃ¼½Ä(MOS, Metal Oxide Semiconductor) °¡½º¼¾¼ÀÇ °æ¿ì, ¼ö ppm ¼öÁØÀÇ ±Ø¹Ì·® °¡½º°¨Áö°¡ ¿ëÀÌÇÏ°í ¼³Ä¡ ¹× À¯Áöºñ¿ëÀÌ Àú·ÅÇÏ¸ç ±¸Á¶°¡ °£´ÜÇÏ°í Ưº°ÇÑ À¯Áöº¸¼ö°¡ ºÒÇÊ¿äÇÑ ÀÌÀ¯·Î, ÇöÀç À¯ÀÔ½Ä Àü·Â¼³ºñ »óÅÂÁø´Ü¿¡ ÀÖ¾î °¡Àå ÀûÇÕÇÑ ¹æ½ÄÀ¸·Î °£Áֵǰí ÀÖ´Ù.
¹ÝµµÃ¼½Ä °¡½º¼¾¼¿¡ À־ Ÿ±ê°¡½º¿Í ¹ÝÀÀÇÏ´Â °¨µµ(Sensitivity)´Â ³ôÀ¸¸é¼, Ÿ È¥ÇÕ°¡½º¿Í´Â Àß ¹ÝÀÀÇÏÁö ¾Ê´Â ¼±Åüº(Selectivity)ÀÌ ¿ì¼öÇϸç, Àå½Ã°£ »ç¿ëÀÌ °¡´ÉÇÑ ³ôÀº ¼öÁØÀÇ ³»±¸¼ºÀ» ±¸ºñÇÏ´Â °ÍÀÌ ¹«¾ùº¸´Ù Áß¿äÇÏ´Ù.
|
|
|
ÃʼÒÇü Æ÷ÇÔ Á¦ÀÛ°úÁ¤ |
Àü·Â¿¬±¸¿øÀÌ °³¹ßÇÑ ¼ö¼Ò, ¾Æ¼¼Æ¿·», ÀÏ»êÈź¼Ò 3Á¾ À¯Áß °¡½º¼¾¼´Â °¢ Ÿ±ê°¡½º¿¡ ´ëÇÑ °í°¨µµ È®º¸¸¦ À§ÇØ °¡½º¹ÝÀÀÀÌ ¹ß»ýÇϴ ǥ¸éÀûÀ» ±Ø´ëÈÇÑ´Ù´Â Àü·« ÇÏ¿¡ Àü±â¹æ»ç(Electrospinning) °øÁ¤À» Àû¿ëÇØ °¡´Ã°í ±ä ¼¶À¯ ÇüÅÂÀÇ ³ª³ë¼ÒÀ縦 ÇÕ¼ºÇØ Á¦À۵ƴÙ.
¿©±â¼ Àü±â¹æ»ç¶õ, ÃæºÐÇÑ Á¡µµ¸¦ °¡Áø °íºÐÀÚ ¿ë¾×¿¡ Àü±âÀåÀ» °¡ÇÔÀ¸·Î½á ½Ã¸°Áö ³ëÁñ ÆÁÀ¸·ÎºÎÅÍ ¹Ì¼¼ÇÑ ³ª³ë¼¶À¯¸¦ »Ì¾Æ³» ¹Ý´ëÆíÀÇ ÁýÀüÆÇ¿¡ ÀûÃþ½ÃÅ°´Â ¹æ½ÄÀε¥, ¸Å¿ì Àú·ÅÇÑ ºñ¿ëÀ¸·Î ³ª³ë¼ÒÀçÀÇ ´ë·®»ý»êÀÌ °¡´ÉÇÑ ÀåÁ¡À» °¡Áø´Ù.
°¡½º¼¾¼´Â º»ÁúÀûÀ¸·Î ¸ñÇ¥·Î Çϴ Ÿ±ê°¡½º ¿Ü °ÅÀÇ ¸ðµç °¡½º¿¡ Á¶±Ý¾¿ ´Ù ¹ÝÀÀÇÏ´Â °Ô °áÁ¤Àû ´ÜÁ¡ÀÌ´Ù.
À̹ø¿¡ °³¹ßµÈ °¡½º¼¾¼´Â º¯¾Ð±â ³» °øÁ¸ÇÏ´Â ¸Þź(CH4), ¿¡Æ¿·»(C2H4), ¿¡Åº(C2H6), ÀÌ»êÈź¼Ò(CO2) µî¿¡ ´ëÇÑ ¹ÝÀÀÀ» ÃÖ¼ÒÈÇÔÀ¸·Î½á ¼ö ppm ¼öÁØÀÇ ±Ø¹Ì·® ¾Æ¼¼Æ¿·»(C2H2) °ËÁöµµ °¡´ÉÇÑ ¼öÁØÀÇ ³ôÀº °¡½º¼±ÅüºÀ» °¡Á³´Ù.
ƯÈ÷, ÁÖ·Î ´ë±â Áß¿¡¼ »ç¿ëÇÏ´Â ÀϹÝÀûÀÎ °¡½º¼¾¼¿Í ´Þ¸®, »ê¼Ò ³óµµ°¡ 2% ¹Ì¸¸À¸·Î ¸Å¿ì Èñ¹ÚÇÑ À¯Áßȯ°æ¿¡¼µµ ³ôÀº ¼öÁØÀÇ °¨µµ¸¦ °¡ÁüÀ¸·Î½á, ±âÁ¸ ±â¼ú°úÀÇ Â÷º°¼ºÀ» ºÐ¸íÈ÷ Çß´Ù.
¾Æ¼¼Æ¿·» ¼¾¼ÀÇ °æ¿ì, À¯Áß È¯°æ¿¡¼´Â 1ppm, °ø±â Áß¿¡¼´Â 100ppbÀÇ ±ØÀú³óµµÀÇ ÃøÁ¤ÀÌ °¡´ÉÇÑ ¼¼°èÃÖ°í ¼öÁØÀÇ °¨Áö Ư¼ºÀ» º¸ÀδÙ.
ÁØ»ó¿ë±ÞÀ¸·Î °³¹ßµÈ °¡½º¼¾¼´Â º¯¾Ð±â ¼Ó¿¡ Á÷Á¢ »ðÀԵǴ ºÀ Çü»óÀÇ ÇÁ·Îºê(Probe) ÷´Ü¿¡ ÀåÀÔÇØ »ç¿ëÇϸç, º¯¾Ð±â ³»ºÎ¿¡¼ ¸âºê·¹ÀÎÀ» ÅëÇØ Àý¿¬À¯·ÎºÎÅÍ Á÷Á¢ °¡½º¸¦ ºÐ¸®ÇØ ºÐ¼®ÇÔ¿¡ ÀÇÇØ ±Ø¹Ì·®(<10ppm)ÀÇ Å¸±ê°¡½ºµµ ºü¸£°í Á¤È®ÇÏ°Ô °¨Áö °¡´ÉÇÔÀ» È®ÀÎÇß´Ù.
°³¹ßÇÑ °¡½º¼¾¼´Â ÃʼÒÇü(1.4x1.4mm) ¾Ë·ç¹Ì³ª ±âÆÇÀ» ÀÌ¿ëÇØ Á¦ÀÛÇÔÀ¸·Î½á, ÇÁ·Îºê ³»¿¡ ÃÖ´ë 3Á¾±îÁö »ðÀÔÀÌ °¡´ÉÇÏ´Ù.
¸¸¾à ¹Ì¼¼ÀüÀÚÁ¦¾î±â¼ú(MEMS, Micro-Electro Mechanical Systems)À» Àû¿ëÇØ º¸´Ù ÀÛÀº Å©±â(100x100§)ÀÇ ±âÆÇÀ» ÀÌ¿ëÇÏ°Ô µÇ¸é ¼¾¼ ±âÆǿµµ¿¡ µû¶ó¼ ÇÁ·Îºê ³»¿¡ 9~18Á¾ÀÇ °¡½º¼¾¼¸¦ µ¿½Ã ÀåÂøÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
¼¾¼¸¦ ÀÌ¿ëÇØ ÃøÁ¤µÈ °¡½ºµ¥ÀÌÅÍ´Â º¯¾Ð±â ¿ÜºÎ Ãø ÇÁ·Îºê ¸»´Ü¿¡ ¼³Ä¡µÇ´Â °¡½º¸ð´ÏÅÍ ¶Ç´Â ÀÛ¾÷ÀÚÀÇ ½º¸¶Æ®ÆùÀ» ÀÌ¿ëÇØ ÇöÀå¿¡¼ È®ÀÎÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
¿ø°ÝÁöÀÇ Á¦¾î½Ç·Îµµ µ¥ÀÌÅÍ°¡ ¼Û½ÅµÅ ½Ç½Ã°£À¸·Î º¯¾Ð±âÀÇ »óÅ°¨½Ã°¡ °¡´ÉÇÏ´Ù.
°³¹ßµÈ À¯Áß°¡½º¼¾¼ ¹× ÇÁ·Îºê´Â ÃÑ 21´ëÀÇ »ç³»¿Ü º¯¾Ð±â(22.9~765kV)¸¦ ´ë»óÀ¸·Î ÇÑ ÇöÀå ¼º´É°ËÁõÀ» ¿Ï·áÇß´Ù.
Àü·Â¿¬±¸¿øÀº ÇâÈÄ Àü·Â¿ë º¯¾Ð±â»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó, ºÐ·Î¸®¾×ÅÍ(Shunt Reactor) ¹× ÁöÁßÄÉÀ̺í Á¾´ÜÁ¢¼ÓÇÔ(EBA, EBG) »óÅ°¨½Ã ¸ñÀûÀ¸·Î Àû¿ë ´ë»óÀ» Á¡ÁøÀûÀ¸·Î È®´ëÇØ ³ª°¥ °èȹÀÌ´Ù.
Àü·Â»ê¾÷ ¿Ü¿¡µµ ±Ø¹Ì·® Ư¼ö°¡½º °¨Áö°¡ ¿ä±¸µÇ´Â ´Ù¾çÇÑ »ê¾÷±ºÀ¸·Î È°¿ëµµ¸¦ È®ÀåÇÔÀ¸·Î½á °¢Á¾ ¿¡³ÊÁö ¼³ºñÀÇ ¾ÈÀü»ç°í ¿¹¹æ ¹× ½Å·Ú¼º È®º¸¿¡ ±â¿©ÇÑ´Ù´Â Àü·«ÀÌ´Ù.
|
|
|
ÇÁ·Îºê ºÐÇØ ¸ð½À |
|